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产品详情
微波RPS系统是一套集成的等离子体源生成系统。它由微波自动匹配器组件、等离子发生器以及微波电源组成。
远程等离子体源，是一种用于产生等离子体的装置，通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、以及半导体刻蚀和薄膜设备的预处理反应和清洗等。
应用特征
1.产品自主研发，能实现在不同气体条件下，快速进行微波源与等离子体的阻抗匹配。
2.等离子体发生器材质可选，适用于多种气体。
3.体积小、集成度高、便于更换。低颗粒污染。功率输出稳定，频率集中度高，使用寿命长。
4.系统运行时，气体压力适应范围宽。气体电离率高、电离速度快。
工作频率 | 2450MHz±500KHz | ||
微波功率范围 | 150W-3000W | ||
功率稳定度 | ≤±1% @500W-3000W | ||
适用气体 | O2, N2, H2O, Ar, He, H2, 等 | ||
运行气压范围 | 0.06-20 Torr | ||
气体流量范围 | 0.1-10 slm | ||
电源输入 | AC208V，45-60HZ, 35A 三相4线（固态功放） | ||
冷却方式 | 循环水冷 | ||
控制接口 | DB25/DB89/触摸屏 | ||
通信模式 | 默认RS-485通信 | ||
等离子输出口 | ISO-KF40 | ||
阻抗匹配方式 | 自动匹配+手动操作；HOLD模式和PRESET模式 | ||
阻抗匹配时间 | < 2秒 | ||
功率匹配范围 | 500W-3000W | ||
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